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| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
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日本本多honda 流水式超聲波清洗機
主機適配寬電壓 AC100V~240V,國內車間直接通電不用變壓器;整機尺寸 180×250×100mm,重量 2.2kg,放置在設備機柜、工作臺都不占空間,工作環(huán)境適配 5~40℃無塵車間。
區(qū)別于傳統(tǒng)槽浸式超聲波清洗,W-357-1MPG 屬于流水脈沖噴射式清洗:去離子純水持續(xù)通入噴頭內部,壓電振子產生 1MHz 高頻兆聲波,將超聲波振動傳導進流動水流;水流噴出時攜帶高強度超聲空化沖擊力,瞬間剝離工件表面 0.1μm 級亞微米粉塵、拋光殘留、光刻膠碎屑。同時流動的純水會立刻帶走剝離下來的微小顆粒,臟污不會懸浮在清洗介質內,從根源杜絕顆粒二次吸附在工件表面,清洗潔凈度遠高于浸泡機型,尤其適合超薄、高精密、高潔凈要求的工件。
完整型號:W-357-1MPG(發(fā)振主機 + 標準脈沖噴頭整套)
振蕩頻率:1MHz(兆聲波高頻)
發(fā)振主機額定輸出:40W,可調范圍 0~40W
主機供電:AC100~240V 單相 50/60Hz,300VA
主機外形尺寸:180×250×100mm,重量 2.2kg
噴頭尺寸:Φ25×78mm,出水口 φ4mm
標準供水流量:0.9L/min(L 型接頭)
適配清洗液體:20~50℃去離子水、弱堿性清洗藥液
噴頭接觸液材質:PP、PCTFE、PTFE(無金屬析出)
通訊功能:RS422A 通訊、4-20mA 模擬信號輸出
工作環(huán)境:環(huán)境溫度 5~40℃,濕度 10%~85% 無凝露
日本本多honda 流水式超聲波清洗機
原廠成套出貨,發(fā)振器 + 噴頭整套配齊,到手即裝即用,省去單獨匹配主機、噴頭的調試成本;
1MHz 兆聲波高頻方案,空化沖擊力柔和,清洗硅晶圓、硬盤磁頭、光學鏡片不會產生劃痕,低損傷清洗;
數(shù)字恒定功率控制,自動溫補頻率,全天不間斷產線運行,超聲輸出穩(wěn)定無衰減;
流水噴射清洗結構,實時帶走剝離微顆粒,杜絕粉塵二次附著,亞微米污染物去除效果優(yōu)異;
噴頭全非金屬耐腐蝕材質,無金屬離子析出,滿足半導體無塵車間超高潔凈生產標準;
0~40W 功率無級調節(jié),軟質光學鏡片、硬質硅晶圓都能匹配對應清洗力度,適配多種工件;
完備工業(yè)通訊接口,RS422A+4-20mA 信號輸出,無縫對接自動化產線 PLC,實現(xiàn)全自動無人清洗;
噴頭體積迷你,安裝靈活,可嵌入單片晶圓清洗機、光學鍍膜前置清洗工位,改造現(xiàn)有產線成本低;
整機維護簡單,更換同規(guī)格噴頭無需重新校準主機,日常僅需定期更換進水過濾芯,售后維護省心。
半導體行業(yè):硅片、藍寶石襯底、砷化鎵晶圓、CMP 拋光后殘屑清洗、光刻工序后微粒去除;
存儲硬盤行業(yè):HDD 磁盤盤片、讀寫磁頭精密清洗;
光學光電行業(yè):AR/VR 光學鏡片、激光透鏡、光學掩模版、玻璃蓋板鍍膜前清洗;
精密電子行業(yè):微型 PCB、芯片載具、傳感器精密元件、微型端子油污粉塵清洗;
實驗室科研:精密石英器皿、光學樣品、半導體實驗樣片超凈清洗。
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