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核心清洗原理（干式無藥液）

1. 185nm 真空紫外：電離空氣生成臭氧，強(qiáng)氧化分解工件表面指紋、油污、脫模劑、有機(jī)微粒；

2. 254nm 紫外：直接打斷有機(jī)物分子化學(xué)鍵，剝離納米級(jí)污染物；

3. 雙重作用同步完成表面除污 + 表面活化改性，不劃傷精密基材。

關(guān)鍵硬件規(guī)格

1. 光源配置：內(nèi)置 3 支原裝長(zhǎng)壽命紫外燈管，照射面積更大、能量更均勻；

2. 有效照射尺寸：200×200mm，兼容中小型基板、晶圓、鏡片、塑膠件；

3. 旋轉(zhuǎn)載臺(tái)：腔體內(nèi)置轉(zhuǎn)盤，360° 均勻輻照，消除照射盲區(qū)；

4. 安全結(jié)構(gòu)：封閉式腔體 + 門聯(lián)鎖（開門立刻切斷 UV 光源）；內(nèi)置靜音臭氧排風(fēng)，及時(shí)排出臭氧；

5. 控制系統(tǒng)：雙數(shù)顯面板，可獨(dú)立設(shè)定照射時(shí)長(zhǎng)、間隔時(shí)間，支持循環(huán)批量加工；

6. 供電：穩(wěn)壓電路，電壓波動(dòng)不影響紫外輸出穩(wěn)定性，適配無塵車間。

核心功能（清洗 + 表面改性）

1. 納米級(jí)有機(jī)污染物清除

   去除硅片、玻璃、光學(xué)鏡片、塑膠表面油脂、光刻膠殘漬、脫模劑、手指?。豢勺龉饪棠z灰化、電鍍前預(yù)處理。

2. 基材表面活化（提升附著力）

• 降低水接觸角，大幅提升樹脂潤(rùn)濕性；

• 粘接、點(diǎn)膠、鍍膜、印刷前預(yù)處理，杜絕脫膠、掉膜、色差；

3. 適用基材

   硅晶圓、光學(xué)玻璃 / 石英、PET/PC/ 亞克力塑膠、陶瓷、金屬、薄膜、醫(yī)療器械基材。

主要應(yīng)用行業(yè)

• 半導(dǎo)體 / 微電子：晶圓、載板、光刻工藝前處理；

• 光學(xué)行業(yè)：鏡頭、鏡片、鍍膜基材清洗活化；

• 精密塑膠：手機(jī)外殼、光學(xué)元件粘接預(yù)處理；

• 醫(yī)療耗材：高分子器械粘接前潔凈處理；

• 實(shí)驗(yàn)室研發(fā)：材料表面改性、潤(rùn)濕性測(cè)試小樣處理；

• 電鍍 / 噴涂：工件前處理，提升涂層結(jié)合力。

設(shè)備優(yōu)勢(shì)對(duì)比

1. 臺(tái)式小型機(jī)，桌面擺放，無需大型產(chǎn)線空間，兼顧實(shí)驗(yàn)室 + 小批量生產(chǎn)；

2. 干式清洗，無酸堿溶劑、無廢水，環(huán)保且不傷超薄 / 軟質(zhì)基材；

3. 三燈 + 轉(zhuǎn)盤設(shè)計(jì)，同尺寸機(jī)型照射均勻度優(yōu)于單 / 雙燈臺(tái)式 UV 清洗機(jī)；

4. 燈管模塊化獨(dú)立更換，維護(hù)簡(jiǎn)單，長(zhǎng)期運(yùn)行能量衰減平緩；

5. 自帶臭氧排風(fēng)，避免臭氧腐蝕車間設(shè)備、危害操作人員。