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日本KANKEN干蝕工藝專用廢氣處理裝置

KPL-C13-W 是一款專為半導(dǎo)體干蝕工藝開發(fā)的高粉塵廢氣無害化處理裝置，是 KPL-C13 系列的金屬蝕刻增強版。它采用前后雙凈化器結(jié)構(gòu)，可安全處理 HBr、BCl?等高水解性、高粉塵負載的工藝廢氣，是 200mm/300mm 晶圓廠金屬蝕刻工序的核心環(huán)保設(shè)備。

日本KANKEN干蝕工藝專用廢氣處理裝置

五大核心產(chǎn)品優(yōu)勢

1. 前后雙凈化器結(jié)構(gòu)，強效阻斷粉塵堵塞

相比傳統(tǒng) KPL-C13，KPL-C13-W 在反應(yīng)堆前后均配備了專用凈化器，形成雙重防護，可有效捕捉干蝕工藝產(chǎn)生的高濃度粉塵，解決設(shè)備堵塞問題，保障金屬蝕刻產(chǎn)線連續(xù)穩(wěn)定運行。

2. 高粉塵負載耐受，適配金屬蝕刻工況

專為金屬蝕刻工藝中 HBr、BCl?等高水解、高粉塵廢氣設(shè)計，可處理高粉塵負載的復(fù)雜工況，是半導(dǎo)體金屬蝕刻工序的專用解決方案，在全球多家晶圓廠擁有成熟應(yīng)用案例。

3. 無二次污染處理，工藝兼容性強

通過前后凈化器 + 反應(yīng)處理的組合工藝，不僅能高效分解有害氣體，還能去除粉塵副產(chǎn)物，避免二次污染，同時防止粉塵進入后續(xù)管道造成堵塞，降低設(shè)備故障率與維護成本。

4. 成熟工藝驗證，適配 200/300mm 產(chǎn)線

在全球多家 200mm/300mm 半導(dǎo)體工廠的先進干蝕工藝中擁有長期穩(wěn)定運行驗證，設(shè)備處理效率與穩(wěn)定性經(jīng)過市場檢驗，可直接對接現(xiàn)有金屬蝕刻設(shè)備，無需額外改造。

5. 全集成化設(shè)計，部署與維護便捷

一體化機柜設(shè)計，將反應(yīng)單元、前后凈化器、控制系統(tǒng)集成于一體，減少現(xiàn)場安裝與調(diào)試工作量；同時預(yù)留維護檢修口，方便定期清理粉塵與更換耗材，運維效率大幅提升。

典型應(yīng)用場景

半導(dǎo)體金屬蝕刻工藝：200mm/300mm 晶圓廠金屬干蝕工藝中 HBr、BCl?等高粉塵廢氣處理。

高水解廢氣處理：含高反應(yīng)性、易水解氣體的工藝廢氣無害化處理，避免管道腐蝕與堵塞。

先進半導(dǎo)體工廠：高密度潔凈廠房中，金屬蝕刻工序廢氣處理系統(tǒng)部署。