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日本KANKEN半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備

KPL-C13 是一款多工藝兼容型半導(dǎo)體廢氣處理裝置，專(zhuān)為 200mm/300mm 晶圓產(chǎn)線設(shè)計(jì)，可同時(shí)處理含 CF?的 PFCs、鹵素氣體、可燃?xì)怏w（SiH?、TEOS）及副產(chǎn)氟基氣體，實(shí)現(xiàn)多種復(fù)雜工藝廢氣的一站式無(wú)害化處理，是半導(dǎo)體蝕刻、沉積等多工序集中處理的高效環(huán)保設(shè)備。

日本KANKEN半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備

五大核心產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

1. 一站式處理多種工藝廢氣，多工序兼容

可同時(shí)處理耐火 CF?、鹵素氣體、SiH?、TEOS 等多種復(fù)雜廢氣，無(wú)需為不同工藝配置多臺(tái)設(shè)備，大幅減少產(chǎn)線設(shè)備數(shù)量與占地面積，降低運(yùn)維成本。

2. 僅用常規(guī)介質(zhì)分解，無(wú)額外燃料更環(huán)保

僅依靠電、水和氮?dú)鈱?shí)現(xiàn)廢氣分解，全程不使用化石燃料，無(wú)額外 CO?排放，符合半導(dǎo)體工廠低碳環(huán)保要求，是綠色制造的理想選擇。

3. 內(nèi)置洗滌器處理含氟副產(chǎn)物，無(wú)二次污染

廢氣分解后產(chǎn)生的含氟氣體，可通過(guò)內(nèi)置洗滌器直接處理，無(wú)需額外配置后處理設(shè)備，實(shí)現(xiàn)從分解到凈化的一體化處理，避免二次污染。

4. 成熟工藝驗(yàn)證，適配 200/300mm 產(chǎn)線

在全球多家 200mm/300mm 半導(dǎo)體工廠的先進(jìn)工藝中擁有成熟驗(yàn)證業(yè)績(jī)，設(shè)備穩(wěn)定性與處理效率經(jīng)過(guò)市場(chǎng)長(zhǎng)期檢驗(yàn)，可穩(wěn)定適配多種復(fù)雜工藝廢氣工況。

5. 全集成化設(shè)計(jì)，部署與維護(hù)便捷

采用一體化機(jī)柜設(shè)計(jì)，將分解單元、內(nèi)置洗滌器、控制系統(tǒng)集成于一體，減少現(xiàn)場(chǎng)安裝與調(diào)試工作量；同時(shí)預(yù)留維護(hù)檢修口，方便日常保養(yǎng)與耗材更換。

典型應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體蝕刻工藝：200mm/300mm 晶圓廠干法蝕刻、反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝中 PFCs 與鹵素廢氣處理。

半導(dǎo)體沉積工藝：化學(xué)氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）工藝中 SiH?、TEOS 等可燃廢氣無(wú)害化處理。

多工序集中處理：半導(dǎo)體工廠蝕刻、沉積等多工序廢氣集中處理系統(tǒng)部署，減少設(shè)備臺(tái)數(shù)。

環(huán)保合規(guī)場(chǎng)景：應(yīng)對(duì)嚴(yán)苛環(huán)保法規(guī)，實(shí)現(xiàn)多種復(fù)雜廢氣超低排放，助力半導(dǎo)體工廠碳中和。