日本進(jìn)口DNK大日本科研膠片用曝光裝置

是一款專為實(shí)驗(yàn)與研究場景設(shè)計(jì)的高精度手動(dòng)曝光設(shè)備，適用于玻璃、晶圓、膠片等多種基材，是小批量生產(chǎn)與研發(fā)的理想選擇。

該裝置主要型號(hào)包括?MA-1200?和?MA-1400?，具備以下核心特點(diǎn)：

?兼容性強(qiáng)?：支持最大500 mm × 500 mm的基板尺寸，適用于不同規(guī)格的膠片曝光需求。

?多種曝光模式?：可選擇接觸式曝光（軟接觸/硬接觸）或接近曝光，滿足不同工藝對(duì)分辨率與均勻度的要求。

?高性能光源系統(tǒng)?：配備超高壓汞燈（500W、1kW、2kW、3.5kW可選），并可根據(jù)應(yīng)用需求搭配特殊透鏡、聚光鏡等光學(xué)組件，實(shí)現(xiàn)最佳光照組合。

?緊湊設(shè)計(jì)?：設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，尤其適合高混合、小批量的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。

?可擴(kuò)展功能?：支持選配無塵圍欄、背面對(duì)位、自動(dòng)對(duì)位、真空緊密接觸（硬接觸）等功能，滿足特殊工藝需求（需提前咨詢）。

該裝置由?大日本科研株式會(huì)社（DNK）?研發(fā)制造，廣泛應(yīng)用于液晶面板、LED、光電子器件及微細(xì)加工領(lǐng)域的研究與試產(chǎn)環(huán)節(jié)。其穩(wěn)定性和靈活性使其成為高校、科研機(jī)構(gòu)及企業(yè)研發(fā)部門的重要工具。

日本進(jìn)口DNK大日本科研膠片用曝光裝置

適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機(jī)EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機(jī)。對(duì)應(yīng)RolltoRoll,可實(shí)現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。

主要特長

 除近接曝光外，還可對(duì)應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸)

·可對(duì)應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。

采用獨(dú)自的光學(xué)系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進(jìn)行一燈式雙面曝光。

，裝載有自動(dòng)對(duì)位功能。通過特殊照明實(shí)現(xiàn)透明材料的對(duì)位。

，除Rollto Roll外可設(shè)計(jì)枚葉式搬送等機(jī)構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置。

 可選擇基板臺(tái)溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項(xiàng))

主要用途

觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機(jī)EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板