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紫外激光直寫光刻機設備具備優(yōu)異的微納精密圖形加工性能,可實現(xiàn)亞
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無掩模紫外激光直寫系統(tǒng)可用于微納結構的高精度圖形加工,實現(xiàn)亞微
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織雀?系列PL-3DPremium高精密微3D光刻機,最高光學分辨率可達1μm
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UVLitho-Y無掩模光刻機是一款桌面型無掩模版紫外光刻機,該機器具
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BIO系列無掩模光刻機是生命科學版的無掩模紫外光刻機,該設備具有
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UVLitho-S+無掩模光刻系統(tǒng)是高速版的無掩模版紫外光刻機,其配備了
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UV Litho-ACA Master無掩模光刻系統(tǒng)
UVLitho-ACAMaster無掩模光刻系統(tǒng)是科研版的無掩模版紫外光刻機,
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公眾號:chem17
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