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RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)詳細(xì)信息
CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。
具體包括：
◆ 介電材料（SiO2、SiNx 等）
◆ 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）
◆ III-V 材料（GaAs、InP、GaN 等）
◆ 濺射金屬（Au、Pt、Ti、Ta、W 等）
◆ 類金剛石（DLC）
應(yīng)用領(lǐng)域：
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學(xué)、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。
產(chǎn)品特點(diǎn)
◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。
◆ PLC 工控機(jī)控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。
◆ 真空艙體、全真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。
◆ 采用防腐數(shù)字流量計(jì)， 實(shí)現(xiàn)對氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)， 可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)， 可輸入氧氣、氬氣、 氮?dú)狻⑺姆?、氫氣或混合氣等氣體。
◆ 采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變單孔進(jìn)氣不均勻問題。
◆ HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
◆ 符合人體功能學(xué)的 60 度傾角操作界面設(shè)計(jì)，操作方便，界面友好。
◆ 采用頂置真空艙，上開蓋設(shè)計(jì)，下壓式鉸鏈開關(guān)方式。
◆ 上置式 360 度水平取放樣品設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作更方便。
◆ 有效處理面積大，可處理最大直徑 154mm 晶元硅片。
◆ 安全保護(hù)，艙門打開，自動關(guān)閉電源，機(jī)器運(yùn)行、停止提示。
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