實驗室無掩膜曝光機 參考價：面議
實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-ML...
等離子清洗去膠機 參考價：面議
真空等離子清洗機(Plasma cleaner),氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品 表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離...
針筒式自動旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...
光學(xué)反射膜厚儀 參考價：面議
本設(shè)備利用反射干涉的原理進行無損測量，測量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率，同時提供樣品反射率，測量精度達到埃級的分辨率，測量迅速，操作簡單，界面友好，測...
桌上型自動刻蝕機 參考價：面議
桌上型自動刻蝕機MSD-200F主要應(yīng)用于曝光后的顯影后的刻蝕工藝。該設(shè)備主要由PVC腔單元、自動擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，...
程控烤膠機 參考價：面議
程控烤膠機HPP-8是針對半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)中晶圓烘烤而設(shè)計的一款產(chǎn)品.采用新穎的數(shù)字式加觸摸屏面板，精準的控制熱板表面溫度；堅固耐腐蝕的鋁合金面板，表面陽極氧化處...
鈣鈦礦電池烤膠機 參考價：面議
烤膠機產(chǎn)品特點：熱均勻性：采用單片機和集成電路板設(shè)計， 同時采用密集加熱 管澆灌一體成型，均勻性更高。體積：外觀小巧精致，以及超大按鍵更適宜手套箱內(nèi)操作使用耐腐...
紫外臭氧清洗機 參考價：面議
UV紫外臭氧清洗機擁有工業(yè)級別的清洗效率和效果，采用更簡易操作的抽屜式托盤設(shè)計，廣 泛應(yīng)用于光伏（鈣鈦礦電池），半導(dǎo)體芯片（晶圓）和光學(xué)元件及光通訊領(lǐng)域，適用于...
桌上型手動旋轉(zhuǎn)涂布機 參考價：面議
勻膠機設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12...
桌上型自動顯影機 參考價：面議
桌上型自動顯影機MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機采用框架...
無掩膜光刻機 參考價：面議
CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列功能靈活、...
掩膜板涂膠機 參考價：面議
掩膜板涂膠機設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用...
超聲霧化噴膠機 參考價：1
噴膠機是一種把光刻膠先霧化成微小液滴，再用氣流/噴頭運動把“霧"均勻送到晶圓或者玻璃表面，最后通過流平 + 溶劑揮發(fā)/熱固化形成連續(xù)薄膜的設(shè)備。適應(yīng)性強、材料利...
HMDS增粘勻膠機 參考價：1
HMDS增粘勻膠機應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展...
光阻成像儀 參考價：面議
光阻成像儀/桌上型自動顯影機MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，...
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