《GB/T 6682—2008分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法》規(guī)定,分析實(shí)驗(yàn)室用水的原水應(yīng)為飲用水或適當(dāng)純度的水。分析實(shí)驗(yàn)室用水共分為3個(gè)級別:一級水、二級水和三級水(表1)。
一級水:用于有嚴(yán)格要求的分析試驗(yàn),包括對顆粒有要求的實(shí)驗(yàn),如高效液相色譜分析用水;一級水可用二級水經(jīng)過石英設(shè)備蒸餾或離子交換混合床處理后,再經(jīng)0.2μm微孔濾膜過濾來制取。
二級水:用于無機(jī)痕量分析等試驗(yàn),如原子吸收光譜分析用水;二級水可用多次蒸餾或離子交換等方法制取。
三級水:用于一般化學(xué)分析試驗(yàn);三級水可用蒸餾或離子交換等方法制備。
與《ISO 3696—1995分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)范和試驗(yàn)方法》相比,除了規(guī)定的蒸發(fā)殘?jiān)鼫囟壬杂胁町愅猓↖SO 3696—1995 要求的蒸發(fā)溫度為110℃),其他要求均相同。
表1:分析實(shí)驗(yàn)室用水國家標(biāo)準(zhǔn)質(zhì)量要求
| 名稱 | 一級水 | 二級水 | 三級水 |
| pH 值(25℃) | — | — | 5.0-7.5 |
| 電導(dǎo)率(25℃)/(mS/m) | ≤0.01 | ≤0.10 | ≤0.50 |
| 易氧化物質(zhì)含量(以氧計(jì))/(mg/L) | — | ≤0.08 | ≤0.4 |
| 吸光度(254nm,1cm光程) | ≤0.001 | ≤0.01 | — |
| 蒸發(fā)殘?jiān)?105℃±2℃)含量/(mg/L) | — | ≤1.0 | ≤2.0 |
| 可溶性硅(以SiO?計(jì))含量/(mg/L) | ≤0.01 | ≤0.02 | — |
1、由于在一級水、二級水的純度下,難于測定其真實(shí)的 pH 值,因此,對一級水、二級水的pH值范圍不做規(guī)定。
2、由于在一級水的純度下,難于測定可氧化物和蒸發(fā)殘?jiān)?,對其限度不做?guī)定,可用其他條件和制備方法來保證一級水的質(zhì)量。
3、1mS/m=10μS/cm。
與藥典的散裝純化水/散裝注射用水相比,吸光度和可溶性硅含量是實(shí)驗(yàn)室用水所獨(dú)有的兩個(gè)質(zhì)量屬性。用分光光度法測量銅離子或鐵離子時(shí),需要以高純水作為參比測定其吸光度并將高純水推入光路調(diào)節(jié)100%透光比,水樣顯色反應(yīng)后測得的吸光度應(yīng)減去高純水作為水樣進(jìn)行顯色反映后測得的吸光度,因此,實(shí)驗(yàn)室純水需要控制吸光度。
自然界的水中不可避免地會溶解部分硅酸鹽,無機(jī)硅是水中最復(fù)雜的無機(jī)物之一,而且難以去除,所以純水或超純水中或多或少都有一定量的硅雜質(zhì)存在。
在電子工業(yè)用水和進(jìn)行ppt級的痕量分析實(shí)驗(yàn)用水都要求將超純水的硅含量降到最低(表2)。在電子行業(yè)的半導(dǎo)體/平板顯示器工藝中,超純水中硅的濃度會給產(chǎn)品精度、成品率和原材料利用率帶來很大影響。同時(shí),在進(jìn)行ppt級的痕量分析中,硅作為一種弱電離離子,其含量的變化對純水電阻率的影響甚小,不容易被發(fā)覺,如果使用這種含硅的水作為空白對照,必然無法得到準(zhǔn)確的分析結(jié)果。
表2:可溶性硅(以SiO?計(jì))的實(shí)驗(yàn)用水標(biāo)準(zhǔn)要求/(μg/L)
| 標(biāo)準(zhǔn)體系 | 一級水 | 二級水 | 三級水 |
| ISO 3696—1995分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)范和試驗(yàn)方法 | 10 | 20 | — |
| ASTM D1193—2006(2018)試劑水標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范 | 3 | 3 | 500 |
| GB/T 6682—2008分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法 | 10 | 20 | — |
| GB/T 33087—2016儀器分析用高純水規(guī)格及試驗(yàn)方法 | 10 | — | — |
| GB/T 11446—2013電子級水 | 2 | 10 | 50 |
硅酸是一種非常弱的酸,在水中不易電離,而且離子交換樹脂與硅的交換效率極易飽和,屬于比較難去除的物質(zhì)。如果純化填料的質(zhì)量差、配比不合理,易導(dǎo)致其吸附效果差,是很難保證水中硅離子的去除效果的。某種程度上講,硅是體現(xiàn)純水機(jī)純化柱質(zhì)量好壞的標(biāo)準(zhǔn)之一。另外有數(shù)據(jù)表明,在純水耗材使用接近末期時(shí),硅是最先穿透離子交換柱進(jìn)入產(chǎn)水的離子,就是所謂的“硅穿透現(xiàn)象”。在純化柱將被耗盡的最后時(shí)刻,在電阻率急劇下降前,大量的硅會在短時(shí)間內(nèi)溶出到產(chǎn)水中。而且,溶解硅的含量還會影響硼穿透離子交換樹脂。
雜質(zhì)硅除了對離子交換樹脂的去除能力是一種挑戰(zhàn)外,對其他的純化條件的反應(yīng)也不相同?,F(xiàn)有純水設(shè)備使用的純化技術(shù)中,RO對硅的去除率達(dá)80%,EDI對硅的去除率則高達(dá)99%。用帶有EDI模塊的純水機(jī)更適合為硅含量敏感的實(shí)驗(yàn)供水。對硅含量要求嚴(yán)格的用戶在選購水機(jī)時(shí)要關(guān)注純水儀對硅雜質(zhì)去除的能力和效果。
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
立即詢價(jià)
您提交后,專屬客服將第一時(shí)間為您服務(wù)