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公眾號:chem17
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產品簡介
| 應用領域 | 化工,能源,電子/電池,電氣,綜合 |
特色
01. 全閉合和電導調節(jié)可由單單元完成。
02. 可以從差壓狀態(tài)(真空到大氣壓)下打開。
03. 采用直接電機驅動機構和高精度齒輪頭,確保了極-佳的位置精度。
04. 控制方法允許多種操作模式,如調節(jié)開口和速度。
05. 適合高流量排氣且高度耐用。
06. 角度顯示指示器允許您從外部檢查閥體的位置。
顯示行業(yè)日本美幸輝 MIYUKI 電動真空蝶閥 BJ4-J65
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MIYUKI 美幸輝 BJ4 系列伺服電動真空蝶閥
BJ4 是伺服高精度無級調節(jié)真空蝶閥,適配常壓~10??Pa 高真空、大流量排氣 / 進氣精密控壓,區(qū)別于 BAZ 數字檔位、BAR 模擬調壓,主打全程連續(xù)開度閉環(huán)控制、壓差下可靠啟閉、量產自動化真空產線。
一、半導體 / 微電子(核心主力應用行業(yè))
細分設備場景
PVD/CVD/ALD 鍍膜設備:工藝腔進氣、氬氣 / 氮氣分壓精準調節(jié),穩(wěn)定鍍膜速率與膜層均勻度
晶圓刻蝕、離子注入設備:真空腔分壓控制、緩慢破真空,防止晶圓氧化、顆粒污染
半導體封裝、等離子清洗機:腔體梯度泄壓、抽氣流量閉環(huán)穩(wěn)壓
真空氦檢系統(tǒng):檢漏腔進氣微調,精準控制檢漏壓差,提升檢測精度
適配優(yōu)勢
SUS304 鏡面低放氣、超低泄漏≤1×10?? Pa?m3/s,無塵室裝配,伺服重復定位精度高,可在真空 - 常壓壓差狀態(tài)直接開啟閥門,無需旁路輔助閥。
二、光學 / 真空鍍膜行業(yè)(光學、顯示、光伏)
光學鏡片、鏡頭鍍膜機(手機鏡頭、眼鏡、光學玻璃):蒸鍍 / 濺射工藝氣體流量連續(xù)調節(jié),控制折射率、透光率
顯示面板(LCD/OLED)蒸鍍腔體:大面積腔體大流量排氣調壓,縮短工藝循環(huán)節(jié)拍
光伏電池、ITO 導電膜鍍膜設備:工藝真空度閉環(huán)恒定,提升良率
裝飾、工具硬質涂層(DLC、氮化鈦)真空爐:分段進氣穩(wěn)壓,保證涂層附著力
三、鋰電池 / 新能源行業(yè)
電芯真空注液、漿料真空脫泡:緩慢梯度破真空,避免電解液飛濺、氣泡殘留
電池極片真空烘烤、化成腔體:抽氣流量調節(jié),控溫同時穩(wěn)定腔體真空
固態(tài)電池實驗室真空反應腔體:惰性氣體分壓精密控制,隔絕水汽氧氣
選型亮點
BJ4 伺服無級調節(jié),替代多組旁路針閥,單閥實現(xiàn)抽氣 / 充氣全程線性控制,簡化自動化管路。
四、科研實驗室真空設備
高校 / 研究所高真空實驗腔體、表面分析設備(XPS、SEM 配套真空系統(tǒng))
材料燒結、薄膜制備、磁控濺射實驗臺:KF/JIS 法蘭通用,可快速拆裝調試
真空熱壓、氣氛管式爐:惰性保護氣體流量精準調控
真空吸附、低溫真空測試裝置:微小真空度連續(xù)微調
五、熱處理 & 冶金真空爐
真空淬火、回火、釬焊爐:爐體大流量排氣調壓、氣氛進氣分壓控制
金屬粉末冶金真空燒結爐:防止工件氧化,穩(wěn)定爐內真空與保護氣比例
真空滲碳、離子氮化設備:工藝氣體持續(xù)閉環(huán)調節(jié),保證熱處理一致性
六、航天 / 特種真空模擬領域
空間環(huán)境模擬艙、高低溫真空試驗箱:模擬太空低氣壓環(huán)境,無級調節(jié)腔體真空度
零部件真空老化、真空檢漏、真空疲勞測試設備:長時間穩(wěn)定控壓,耐久性滿足長期試驗
七、醫(yī)藥 & 生物真空設備
原料藥真空干燥、凍干機腔體:溫和梯度泄壓,保護熱敏性藥品不結塊、不失效
無菌真空分裝、生物樣本真空保存腔體:潔凈 SUS304 閥體,無油脂析出污染樣品
八、通用工業(yè)自動化真空配套(輔助場景)
真空吸附、真空搬運產線:負壓流量調節(jié),控制吸附力大小
真空泵組主排氣調節(jié)閥:穩(wěn)定前級真空、保護分子泵機組
真空注塑、脫泡成型設備:塑膠原料真空除氣泡流量控制
BJ4 系列適配行業(yè)核心共性需求
需要連續(xù)無級開度調節(jié)、真空度閉環(huán)穩(wěn)壓,不能僅簡單通斷(氣動 B/BH 系列僅開關 / 兩段慢開無法滿足);
腔體存在真空 / 大氣壓壓差,要求閥門可帶壓開啟;
大口徑大流量抽氣 / 進氣、量產設備高頻次啟閉,伺服長壽命穩(wěn)定運行;
高潔凈、低泄漏、低放氣,對顆粒、漏氣量要求嚴苛的精密真空工藝。
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