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Acnoa/光起科技
生產(chǎn)廠家
Acona A7000 APS
391
上海市
2026/4/10 19:00:53
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子/電池,電氣,綜合 |
Acona A7000 APS 是一款專為解決高濃度、高粘度液體顆粒檢測(cè)難題而設(shè)計(jì)的CMP研磨拋光液顆粒檢測(cè)儀。它突破了傳統(tǒng)光阻法的濃度限制，集成了自動(dòng)稀釋技術(shù)與單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)（SPOS）。 無(wú)論是醫(yī)藥領(lǐng)域的乳劑穩(wěn)定性研究，還是半導(dǎo)體CMP研磨液的尾端大顆粒管控，都能幫助您在數(shù)以億計(jì)的顆粒中，精準(zhǔn)找到?jīng)Q定產(chǎn)品質(zhì)量的那萬(wàn)分之一的“異常顆?！?。
突破重合限：傳統(tǒng)的單顆粒傳感技術(shù)在樣品濃度過高時(shí)會(huì)出現(xiàn)“重合”誤差 。A7000 APS 擁有自動(dòng)稀釋模塊。
高濃直測(cè)：能夠直接處理濃度高達(dá) 1011~1012#/mL 的原始樣品，系統(tǒng)自動(dòng)將樣品稀釋至最佳測(cè)試濃度，并由計(jì)算機(jī)根據(jù)稀釋因子自動(dòng)還原原始濃度 。
零人工誤差：全自動(dòng)流程消除了人工稀釋帶來(lái)的試錯(cuò)成本、時(shí)間成本和操作誤差，確保數(shù)據(jù)的高度重復(fù)性（RSD < 1.3%）。
雙物理模式，全譜段覆蓋：系統(tǒng)搭載先進(jìn)的 LE400 傳感器，將光阻法(Extinction)與光散射法(Scattering)結(jié)合在同一系統(tǒng)中。這種雙物理模式設(shè)計(jì)兼顧了微小顆粒的探測(cè)靈敏度與大顆粒的計(jì)數(shù)準(zhǔn)確性，實(shí)現(xiàn)了 0.5 – 400μm 的超寬動(dòng)態(tài)檢測(cè)范圍 。
逐個(gè)計(jì)數(shù)，還原真實(shí)分布：堅(jiān)持“一次檢測(cè)一個(gè)顆粒”的 SPOS 計(jì)數(shù)原理，對(duì)大量粒子樣本進(jìn)行逐個(gè)粒徑測(cè)試并計(jì)數(shù)。它構(gòu)建的是真正的粒度分布 (PSD)，不僅能提供高分辨率的體積分布，更能直接輸出量化的數(shù)量分布結(jié)果，為光電材料及醫(yī)藥原液的質(zhì)量管控提供最真實(shí)的數(shù)據(jù)支撐 。
1024 個(gè)數(shù)據(jù)通道： 相比傳統(tǒng)儀器的 8 或 16 通道，A7000 APS 提供了多達(dá) 1024 個(gè)數(shù)據(jù)通道，對(duì)粒徑大小進(jìn)行極精細(xì)的劃分 。
拒絕“假峰”與誤判： 精度達(dá)到 0.01 μm，能清晰分辨相鄰顆粒的大小 。實(shí)驗(yàn)顯示，對(duì)于 0.8μm、2μm、5μm 的混合標(biāo)粒，低通道儀器可能誤判為一個(gè)寬峰，而 A7000 APS 能清晰呈現(xiàn)出 3個(gè)獨(dú)立的尖峰，還原最真實(shí)的樣本分布 。
捕捉“尾端”風(fēng)險(xiǎn)： 靈敏度高達(dá) 10 PPT 級(jí)別，即使是痕量的顆粒通過傳感器也能被精準(zhǔn)檢測(cè) 。
超越激光衍射： 對(duì)比數(shù)據(jù)顯示，在檢測(cè)尾端大顆粒（LPC）時(shí)，其靈敏度比傳統(tǒng)激光衍射法（LD）顯著提升約 6000倍，是管控 CMP 漿料及乳劑穩(wěn)定性的強(qiáng)力工具 。
專為高標(biāo)準(zhǔn)監(jiān)管行業(yè)打造 。
權(quán)限管理： 內(nèi)置幾十種細(xì)分權(quán)限（如運(yùn)行測(cè)試、固件更新、刪除數(shù)據(jù)等），支持多級(jí)用戶管理 。
審計(jì)追蹤： 詳實(shí)記錄登錄、測(cè)試、校準(zhǔn)、報(bào)告生成等所有操作，支持日志檢索與導(dǎo)出，數(shù)據(jù)不可篡改 。
數(shù)據(jù)安全： 數(shù)據(jù)庫(kù)自動(dòng)備份，支持與 LIMS 系統(tǒng)連接，防止數(shù)據(jù)丟失 。
電子簽名與報(bào)告： 自動(dòng)生成 Pass/Fail 判定報(bào)告，支持電子簽名審批流程 。
循環(huán)系統(tǒng)監(jiān)測(cè)： CMP 漿料在泵送循環(huán)中受剪切力影響會(huì)變得不穩(wěn)定。測(cè)試表明，氧化硅 Slurry 在循環(huán) 24 小時(shí)后，>2μm 的顆粒數(shù)從 1 萬(wàn)個(gè)躍升至 10 萬(wàn)個(gè)。A7000 APS 精準(zhǔn)捕捉到了這萬(wàn)分之一的體積占比變化，幫助制程工程師評(píng)估漿料壽命，減少晶圓劃傷 。
配方研發(fā)支持： 針對(duì)不同酸（如H?SO? vs HNO?）稀釋后的氧化鋁研磨液，A7000 APS 能清晰呈現(xiàn)出酸液對(duì)尾端大顆粒分布的顯著影響，優(yōu)化配方穩(wěn)定性 。
其他應(yīng)用： 墨水、光刻膠、蛋白質(zhì)聚集體、高粘性流體檢測(cè) 。
檢測(cè)原理 | 單顆粒光學(xué)傳感器技術(shù)的光阻法 (SPOS) CMP研磨拋光液顆粒檢測(cè)儀 |
測(cè)量范圍 | 0.5 - 400 μm |
通道數(shù)量 | 1024 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)通道（支持任意自定義通道） |
精度指標(biāo) | 粒徑精度：±2% ； 計(jì)數(shù)精度：±10% |
粒徑靈敏度 | 10 ppt |
稀釋系統(tǒng) | 自動(dòng)二步稀釋系統(tǒng) |
樣品濃度限值 | 1011 個(gè)/mL |
流速范圍 | 60 - 180 ml/min |
進(jìn)樣量 | 5 μL - 5 mL |
進(jìn)樣方式 | 支持 手動(dòng) / 自動(dòng) 進(jìn)樣 |
樣品類型 | 水相 / 有機(jī)相 |
符合標(biāo)準(zhǔn) | USP<729>, CP, CE 等 |
電源要求 | 220–240 VAC，50 Hz |
可選配置 | 21 CFR Part 11 合規(guī)軟件，IQ/OQ/PQ 驗(yàn)證文件 |
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