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產(chǎn)品簡介
霍爾離子源產(chǎn)品參數(shù)
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 化工,電子/電池,汽車及零部件,電氣,綜合 |
霍爾離子源詳細信息
霍爾離子源eH2000eH30001978 年考夫曼博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 和霍爾離子源 . 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40余年沉淀及發(fā)展已得到客戶的極大認可。離子源廣泛用于離子清洗, 離子蝕刻, 輔助鍍膜, 離子濺射沉積領域
霍爾離子源eH2000eH3000技術參數(shù)：
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列
eH 系列霍爾離子源結構緊湊, 束流大、能量低，輻照面積大,可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面, 為工藝過程提供輔助鍍膜，預清洗等多種功能，豐富的型號滿足科研、工業(yè)等多種應用，具有
如下特點：
無柵網(wǎng)
高電流低能量
發(fā)散光束 >45度
可快速更換陽極模塊
多種中和器可選擇
美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
美國 KRI 考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源，滿足各類應用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案，包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應器等等，可以直接整合在各類真空設備中, 例如實驗室小型研發(fā), 鍍膜機, load lock, 濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機和線性鍍膜.
KRI 射頻離子源 Gridded RFICP 系列
射頻離子源 RFICP 系列，通過射頻線圈產(chǎn)生等離子體, 由柵網(wǎng)控制離子束的能量和方向, 是制造精密薄膜和表面處理的得力工具, 有效改善膜層致密性、光透射、均勻性、附著力等，為工藝提供穩(wěn)定支持。
RFICP系列提供完整的產(chǎn)品組合, 包含離子源, 電子供應器, 中和器, 電源控制等
企業(yè)榮譽
更多榮譽| 公司名稱 | 上海睿丹自動化儀表有限公司 | 成立日期 | 2019年11月19日[[已認證]] |
| 注冊資本 | 人民幣200萬元 [[已認證]] | 法定代表人 | 鄭雙雙[[已認證]] |
| 注冊號 | 91310114MA1GWME4XT[[已認證]] | 企業(yè)類型 | 私營合伙企業(yè)[[已認證]] |
| 登記機關 | 上海嘉定區(qū)市場監(jiān)督管理局[[已認證]] | 營業(yè)期限 | 2019年11月19日-2049年11月18日[[已認證]] |
| 經(jīng)營范圍 | 儀器儀表、計算機、軟件及輔助設備（除計算機信息系統(tǒng)安全專用產(chǎn)品）、自動化測控設備、機械設備及配件、辦公用品、電子元器件的銷售，從事儀器儀表、自動化測控設備、電子技術領域內的技術開發(fā)、技術轉讓、技術咨詢、技術服務。[[已認證]] | ||
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