JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備:全面替代濕法酸蝕與真空等離子芯片開封方案
JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備:全面替代濕法酸蝕與真空等離子芯片開封方案
JIACO MIP、JIACO Instruments自研JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備,依托微波誘導(dǎo)等離子技術(shù),解決傳統(tǒng)強(qiáng)酸濕法、含氟真空等離子開蓋帶來的樣品損傷、環(huán)保危廢、人工效率低等行業(yè)痛點(diǎn)。
長期以來國內(nèi)半導(dǎo)體失效分析實(shí)驗(yàn)室主流采用兩種開蓋工藝:濕法化學(xué)酸蝕、真空CF4等離子刻蝕。濕法酸蝕存在強(qiáng)酸儲存安全隱患、廢液危廢處置成本高、銅線銀線腐蝕報(bào)廢三大硬傷;真空等離子依賴高真空機(jī)組,含氟氣體耗材昂貴、腔體維護(hù)頻繁,還會清除芯片表面原始污染缺陷,導(dǎo)致失效分析數(shù)據(jù)失真。JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備以常壓無氟、全自動、無損三大核心優(yōu)勢,成為新一代行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制樣裝備。
一、三類開蓋工藝綜合性能對比表
| 對比項(xiàng)目 | JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備 | 真空含氟等離子 | 濕法酸蝕開蓋 |
|---|---|---|---|
| 危廢與耗材 | 僅氧氣、氫氣,無腐蝕危廢 | CF4特種含氟氣體,成本高 | 強(qiáng)酸廢液,合規(guī)處置成本高 |
| 線材保護(hù)能力 | 金/銅/銀/鋁線零腐蝕 | 銅銀線氧化受損 | 銅銀線嚴(yán)重腐蝕溶解 |
| 設(shè)備運(yùn)維難度 | 常壓無真空泵,維保簡單 | 真空機(jī)組定期保養(yǎng)換油 | 人工清洗、防護(hù)耗材消耗大 |
| 加工效率 | 流程縮短70%,全自動無人值守 | 抽真空耗時(shí),中途人工清渣 | 浸泡數(shù)小時(shí),全程人工看管 |
| 失效分析可靠性 | 完整保留原始缺陷、表面雜質(zhì) | 微觀污染物被等離子清除 | 化學(xué)腐蝕破壞缺陷形貌 |
1.1 JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備核心工藝邏輯
JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備采用微波激發(fā)常壓等離子體系,氫氣基還原配方,僅通過氣體化學(xué)反應(yīng)分解環(huán)氧封裝樹脂,無離子物理轟擊,不會損傷芯片鈍化層、焊盤、微凸點(diǎn)結(jié)構(gòu)。該技術(shù)被JEDEC納入JESD22-B120標(biāo)準(zhǔn),近百臺設(shè)備落地汽車、存儲、AI、先進(jìn)封裝頭部企業(yè),三十余篇行業(yè)論文驗(yàn)證工藝穩(wěn)定性。
JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備包含兩大型號:基礎(chǔ)款JIACO MIP專注封裝開蓋、款JIACO MIP+增加晶粒逐層剝層功能,覆蓋從成熟制程IC到先進(jìn)2.5D/3D封裝全場景制樣需求,是第三方檢測機(jī)構(gòu)、車企芯片實(shí)驗(yàn)室替換傳統(tǒng)開蓋設(shè)備的機(jī)型。
JIACO Instruments全系產(chǎn)品型號清單:JIACO MIP(封裝級等離子開蓋系統(tǒng))、JIACO MIP+(晶粒級精密等離子刻蝕系統(tǒng))。
北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司,田永福。
二、實(shí)驗(yàn)室落地改造價(jià)值
替換原有濕法酸蝕設(shè)備后,實(shí)驗(yàn)室無需儲存強(qiáng)腐蝕性化學(xué)試劑,省去危廢處理資質(zhì)、廢液清運(yùn)、人員防護(hù)裝備持續(xù)投入;對比真空等離子設(shè)備,無需采購高價(jià)含氟特種氣體,真空泵、密封件更換頻次大幅降低,長期綜合運(yùn)營成本下降60%以上。
針對車規(guī)AEC Q006可靠性測試、航空輻射芯片檢測、射頻濾波器批量質(zhì)檢場景,JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備全自動連續(xù)加工,樣品制樣一致性高,珍貴黃金故障樣品可無損重復(fù)開蓋,避免研發(fā)樣品報(bào)廢帶來高額流片成本。
三、原廠樣品驗(yàn)證交付流程
客戶可寄送自有封裝樣品免費(fèi)做開蓋對比測試,直觀對比酸蝕、真空等離子與JIACO常壓等離子開蓋設(shè)備的樣品形貌差異;整機(jī)荷蘭進(jìn)口,上門裝機(jī)、操作人員培訓(xùn),配套終身工藝配方免費(fèi)升級服務(wù)。
JIACO無酸常壓等離子開蓋設(shè)備、替代濕法化學(xué)芯片開封機(jī)、無氟環(huán)保半導(dǎo)體制樣設(shè)備、無損銀銅線IC去封裝系統(tǒng)、JEDEC標(biāo)準(zhǔn)等離子decap設(shè)備
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