日本YAMADA KOGAKU(山田光學(xué))高亮度的定向光源怎么檢測半導(dǎo)體晶圓?

核心檢測原理
- 超高照度(High Illuminance):
設(shè)備的照度(Illuminance)達到 400,000 Lx以上。
這一亮度是日光(Sunlight)的4倍以上。如此高強度的光線能夠穿透微觀層面,使得通常肉眼難以察覺的微小瑕疵產(chǎn)生明顯的光影變化,從而被觀察到。
- 宏觀觀察(Macro-observation):
它屬于宏觀觀察照明設(shè)備,主要用于晶圓加工過程中的最終成品表面檢測。
具體檢測對象
異物/外來物(Foreign matter):附著在表面的灰塵或雜質(zhì)。
劃痕(Scratches):表面的線性損傷。
拋光不均(Polishing irregularities):表面處理不平整。
暈染/霧狀缺陷(Haze):表面出現(xiàn)的模糊或散射現(xiàn)象。
滑移線(Slips):晶體結(jié)構(gòu)中的滑移痕跡。
技術(shù)規(guī)格與應(yīng)用
| 特性維度 | 詳細說明 |
|---|---|
| 光斑直徑 | 根據(jù)型號不同(YP-150I / YP-250I / YP-250IL),照射直徑分為 30mmφ 或 40mmφ。 |
| 照射距離 | 有效工作距離為 140mm 或 220mm(取決于型號)。 |
| 光源類型 | 提供 鹵素?zé)?/span>(高亮度,色溫約3400K)和 LED(壽命長達10,000小時)兩種選擇。 |
| 應(yīng)用場景 | 直接應(yīng)用于 Wafer and glass substrate inspection(晶圓和玻璃基板檢測)。 |
總結(jié)
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