半導體超純水制備安特藍德UV系統(tǒng)綠色處理解決方案
芯片制造,水為命脈。一顆指甲蓋大小的芯片,從晶圓清洗到蝕刻拋光,每道工序都離不開電阻率高達十八兆歐厘米以上的超純水。而水中殘存的微量有機物、微生物和氯胺,哪怕低至ppb級別,都足以讓整批晶圓報廢。安特藍德HOD紫外線系統(tǒng),正是為解決這一命門而生的綠色利器。
安特藍德來自以色列,其核心HOD水光學消毒技術融合了中壓紫外線、光纖原理與水力學設計,在石英消毒室內(nèi)實現(xiàn)全內(nèi)反射,讓紫外線光子反復折射、均勻覆蓋每一滴水,滅活微生物的同時大幅降低能耗。相比傳統(tǒng)低壓紫外系統(tǒng),中壓燈功率更強、燈管更少,維護成本顯著下降,且不受水溫影響,冷水溫水中均可高效運行。
在半導體超純水制備的終端環(huán)節(jié),安特藍德UV系統(tǒng)承擔四大核心任務:微生物滅菌、去除總有機碳、破解臭氧、脫除氯和氯胺。系統(tǒng)無需任何化學藥劑,純物理方式即可完成全部處理,契合半導體行業(yè)對零化學污染的要求。配合實時雙傳感器監(jiān)控與智能軟件控制,系統(tǒng)可根據(jù)水質(zhì)波動自動調(diào)節(jié)燈管功率,在保證滅菌劑量的前提下將功耗壓至低。
更值得關注的是,安特藍德已深度參與中國國家重點研發(fā)計劃,與清華大學、中國電子工程設計院聯(lián)合攻關先進制程芯片用超純水TOC降解關鍵技術,致力于突破該領域長期被歐美日壟斷的技術瓶頸。目前其在華安裝設備已超千臺,廣泛服務于半導體、光伏、制藥等制造領域,以物理凈水之道,守護中國芯片產(chǎn)業(yè)的用水純度。
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