動態(tài)光散射技術詳解——大塚電子納米粒度儀的測量原理
動態(tài)光散射技術詳解——大塚電子納米粒度儀的測量原理
粒徑分析是納米材料表征中最為基礎也是最為關鍵的環(huán)節(jié)。大塚電子的納米粒度儀采用動態(tài)光散射法(Dynamic Light Scattering, DLS),又稱光子相關光譜法,通過分析溶液中顆粒的布朗運動來測定粒徑分布。
動態(tài)光散射的基本原理是:當激光束照射分散在液體中的顆粒時,顆粒因布朗運動產生隨機位移,導致散射光強度隨時間波動。小顆粒運動速度快,散射光波動頻率高;而大顆粒運動緩慢,波動頻率低。系統(tǒng)通過光子相關器計算散射光強度的時間自相關函數(shù),進而求得顆粒的擴散系數(shù),最后依據(jù)Stokes-Einstein方程換算為流體動力學直徑。大塚電子的設備采用高靈敏度雪崩光電二極管(APD)探測器,確保對微弱散射信號的捕獲能力。
大塚電子的納米粒度儀可測量粒徑范圍為0.6 nm至10 μm,幾乎覆蓋了從納米到亞微米的全尺度區(qū)間,濃度范圍從0.00001%的稀溶液到40%的濃溶液均可對應。代表性產品包括ELSZ系列、nanoSAQLA多樣品粒徑測量系統(tǒng)等,廣泛應用于界面化學、無機材料、半導體、高分子聚合物、生物醫(yī)藥等領域的粒度分布評估。
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