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不同類型的干式真空泵的適用場(chǎng)景有哪些
一、多級(jí)爪式干泵（荏原 EV-SA/EV-A/EV-S/EV-X）
極限真空：0.3～1Pa、小型風(fēng)冷居多、潔凈優(yōu)先、可耐受微量粉塵
適用場(chǎng)景
半導(dǎo)體潔凈輕制程
Load-Lock 晶圓傳送腔、PVD 濺射腔體預(yù)抽、離子注入機(jī)前級(jí)、晶圓電鍍?cè)O(shè)備、半導(dǎo)體檢測(cè)機(jī)臺(tái)；
實(shí)驗(yàn)室 & 精密儀器
SEM 掃描電鏡、質(zhì)譜儀 (GC-MS/LC-MS)、小型鍍膜機(jī)、高校真空實(shí)驗(yàn)、冷凍干燥；
小產(chǎn)能泛半導(dǎo)體
MiniLED 封裝、小型研發(fā) PECVD、光學(xué)鍍膜。
選型口訣：潔凈小腔體、少腐蝕、空間小→選爪式風(fēng)冷 EV-SA
二、羅茨干式干泵（荏原 EV-M 系列，多級(jí)羅茨轉(zhuǎn)子、水冷、超大抽速）
極限真空 1～5Pa、大流量、快速抽空、重載工況、單臺(tái)抽速跨度極大
適用場(chǎng)景
半導(dǎo)體重載量產(chǎn)制程
HDP 高密度刻蝕、PECVD/LPCVD、ALD 原子層沉積、RTP 快速退火、擴(kuò)散爐、大腔體 CVD 粗抽；適配大量工藝尾氣 (SF?、O?、鹵化物)；
面板 / 光伏大產(chǎn)線
LCD/OLED 面板鍍膜、HJT 管式 PECVD、硅片燒結(jié)爐整線抽氣；
化工量產(chǎn)
真空蒸餾、大型真空熱處理爐、大容量負(fù)壓反應(yīng)釜。
選型口訣：大腔體、大排氣量、快速破真空→EV-M 羅茨干泵
三、變螺距螺桿干泵（荏原 EST/ESA 防腐螺桿）
極限 0.3～0.5Pa、耐強(qiáng)腐蝕、耐高溫、抗水汽 / 粘稠反應(yīng)物、可全腔體 PTFE 防腐涂層
適用場(chǎng)景
強(qiáng)腐蝕半導(dǎo)體工藝
MOCVD 外延、SiC/GaN 第三代半導(dǎo)體刻蝕、含 HF/HBr/Cl?鹵化氣體制程、干法去膠灰化（大量腐蝕副產(chǎn)物）；
精細(xì)化工 / 醫(yī)藥
原料藥真空濃縮、溶劑回收、易燃易爆有機(jī)氣體抽取；
鋰電 / 新材料
負(fù)極材料燒結(jié)、電解液負(fù)壓脫水。
選型口訣：強(qiáng)酸腐蝕、高水汽、粘稠粉塵多→EST 螺桿防腐款
四、渦旋干式干泵（微型小功率，市面小型國(guó)產(chǎn) / 進(jìn)口）
極限 1～3Pa、體積最小、靜音、微型風(fēng)冷、抽速偏小
適用場(chǎng)景
臺(tái)式小型實(shí)驗(yàn)機(jī)、小型檢漏儀、微型鍍膜、實(shí)驗(yàn)室小腔體，半導(dǎo)體產(chǎn)線極少使用。
半導(dǎo)體工藝選型速查表
表格
| 工藝 | 優(yōu)選泵型 | 荏原對(duì)應(yīng)型號(hào) | 工況特點(diǎn) |
|---|---|---|---|
| Load-Lock、PVD 前級(jí) | 爪式風(fēng)冷 | EV-SA20/30 | 潔凈、間歇啟停、小抽速 |
| 量產(chǎn)刻蝕、常規(guī) CVD | 羅茨干式 | EV-M202/302 | 大流量、多工藝氣體 |
| MOCVD、強(qiáng)腐蝕刻蝕 | 防腐螺桿 | EST-WN | 鹵氣、高腐蝕、高溫 |
| 實(shí)驗(yàn)室、電鏡設(shè)備 | 微型爪泵 | EV-A10 | 安裝緊湊、無(wú)需水冷 |
補(bǔ)充搭配邏輯
超高真空機(jī)組：干泵（前級(jí)預(yù)抽）+ 分子泵，PVD / 離子注入可達(dá)；
惡劣粉塵工況：螺桿 / 羅茨 + 前置除塵 + 氮?dú)夥创?；潔凈輕載優(yōu)先爪式風(fēng)冷。
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