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HEIDENHAIN敞開式光柵尺LIC4100技術參數
HEIDENHAIN敞開式光柵尺LIC4100技術參數
參數類別 | 具體數值 |
測量類型 | 絕對式位置測量 |
測量基準 | METALLUR 相位光柵，20μm 周期，4μm 信號周期 |
尺身材質選項 | 玻璃（8×10??K?1）、玻璃陶瓷（0×10??K?1）、不銹鋼鋼帶（11.5×10??K?1） |
精度等級 | ±1μm/m、±2μm/m、±3μm/m |
測量長度范圍 | 100mm~28000mm（100mm~3040mm 玻璃 / 玻璃陶瓷，最長 28m 鋼帶） |
最大速度 | 480m/min (8m/s) |
最小測量步距 | <1nm（EnDat 2.2 接口，高倍插值） |
輸出信號 | 絕對位置信號（EnDat 2.2、Fanuc、Mitsubishi、Panasonic、Yaskawa） |
參考點 | 絕對位置天然參考，無需額外參考點 |
防護等級 | 敞開式設計，掃描頭 IP 64 |
工作溫度 | 0°C~40°C（標準），真空型支持 - 20°C~60°C |
電源 | 3.6V~14V DC，<300mA |
掃描頭尺寸 | 緊湊型設計，高度 25mm，寬度 35mm |
安裝方式 | 四種機械安裝方式可選，適配不同熱膨脹需求 |
HEIDENHAIN敞開式光柵尺LIC4100技術參數
典型應用場景
半導體與電子制造：晶圓加工設備、光刻機、電子束 / 離子束設備、PCB 組裝機等納米級對位精度要求設備
超精密機床：金剛石刀具加工光學器件機床、磁盤端面車床、鐵氧體元件磨床等高精度加工設備
直驅電機系統(tǒng)：直線電機驅動的高速定位平臺、自動化生產線、機器人第七軸等高動態(tài)應用
真空環(huán)境設備：真空鍍膜機、半導體蝕刻設備、太空模擬實驗室等特殊環(huán)境應用
測量與測試設備：高精度坐標測量機、比較儀、測量顯微鏡、大型結構件疲勞測試設備
醫(yī)療與科研儀器：精密醫(yī)療設備、生物芯片制造設備、粒子加速器定位系統(tǒng)等科研應用
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