池田屋原裝愛發(fā)科真空泵DA-30S產(chǎn)品介紹技術參
在精密工業(yè)與科研領域,真空環(huán)境的潔凈度與穩(wěn)定性直接決定著實驗結果的準確性和產(chǎn)品的良品率。ULVAC(愛發(fā)科)DA-30S膜片干式真空泵,作為真空技術領域的經(jīng)典之作,憑借無油潔凈的核心優(yōu)勢、穩(wěn)定高效的性能表現(xiàn),成為眾多精密場景的理想真空解決方案。這款泵凝聚了愛發(fā)科數(shù)十年的真空技術積淀,專為捍衛(wèi)“絕對潔凈”的真空環(huán)境而生,從啟動到運行全程杜絕油霧污染,為半導體制造、科研分析、自動化生產(chǎn)等領域保駕護航。
二、核心技術參數(shù)
DA-30S的性能參數(shù)經(jīng)過精準調校,能滿足多場景的真空需求:
抽氣速度:在50Hz電源下,有效抽速可達24L/min;60Hz電源下,抽速提升至30L/min,可快速建立所需真空環(huán)境,大幅縮短實驗或生產(chǎn)的準備時間。
極限壓力:極限壓力可達26.6×103 Pa(約-74.7 kPa表壓),能為各類精密操作提供穩(wěn)定的真空條件。
電機配置:采用單相電機,支持100V和220V兩種電壓規(guī)格,功率為39W(50Hz)/43W(60Hz),在保證強勁動力的同時,有效控制能耗。
外形與重量:機身尺寸僅為132×203×182mm,重量僅3.9kg,小巧緊湊的設計使其便于集成到各類實驗設備或小型自動化產(chǎn)線中,節(jié)省空間資源。
接口規(guī)格:吸排氣口徑為O.D.φ9×I.D.φ5,適配多數(shù)常規(guī)真空管道,安裝便捷。
三、性能優(yōu)勢
1. 無油潔凈設計
泵體內(nèi)部氣體接觸部位不使用潤滑油,實現(xiàn)全程無油潔凈排氣,從根源上杜絕了油氣回流污染樣品或實驗環(huán)境的風險。在半導體芯片制造、質譜分析等對潔凈度要求嚴苛的場景中,這一特性能有效避免產(chǎn)品報廢或數(shù)據(jù)失真,保障實驗與生產(chǎn)的可靠性。
2. 高效抽氣結構
采用一段式排氣結構,相較于追求高真空度的二級結構,在抽氣速度上更具優(yōu)勢。可直接從大氣壓下啟動,快速達到目標真空度,無論是真空吸附固定工件,還是作為分析儀器的前級排氣設備,都能提供高效穩(wěn)定的動力支持。
3. 安全智能防護
內(nèi)置自動復位型熱保護器,當電機因過載或異常過熱時,會自動切斷電路,待設備冷卻后自動恢復運行,有效避免電機損壞,延長設備使用壽命。同時,簡單的結構設計降低了故障發(fā)生率,也讓后期維護更加便捷。
四、廣泛應用場景
1. 科研與分析領域
在氣相色譜儀、質譜分析儀等精密分析儀器中,DA-30S可作為真空級泵,為分析腔體提供持續(xù)穩(wěn)定的潔凈真空環(huán)境,確保檢測數(shù)據(jù)的準確性和重復性,助力科研人員精準獲取實驗結果。
2. 自動化搬運領域
配合真空吸盤,可用于電子元器件、光學鏡片等易碎、易損物品的無損吸附與搬運。無油潔凈的特性不會污染工件表面,保障產(chǎn)品品質,同時高效的抽氣速度能提升搬運效率,適配自動化產(chǎn)線的快節(jié)奏需求。
3. 半導體制造領域
在晶圓檢查裝置、探針臺等半導體設備中,DA-30S可用于晶圓的吸附固定,避免油污污染芯片表面,保障半導體器件的性能與良率,為半導體制造的精密流程提供可靠支撐。
五、維護注意事項
為確保DA-30S的長期穩(wěn)定運行,需注意以下維護要點:避免長時間連續(xù)運行,防止泵體過早磨損;嚴禁吸入腐蝕性氣體、有機溶劑或水蒸氣,以免損壞內(nèi)部組件;膜片作為消耗品,建議每3000小時定期檢查更換,確保抽氣性能穩(wěn)定。
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