- 產(chǎn)品名稱：pvd鍍膜設(shè)備
- 品牌/型號：德儀科技 DE700
- 設(shè)備環(huán)境：高真空濺射環(huán)境，多個(gè)濺射源配置，濺射距離精準(zhǔn)可調(diào)
- 電源系統(tǒng)：直流、脈沖直流、射頻電源，兼容HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源
- 樣品處理：支持批量濺鍍，樣品可加熱/低溫冷卻，可選LOAD LOCK全自動(dòng)送樣
- 薄膜性能：膜厚均勻性與重復(fù)性優(yōu)異，高精度鍍膜速率與膜厚控制，超強(qiáng)薄膜附著力
- 選配功能：可選離子束清洗/離子束輔助沉積
- 控制系統(tǒng)：PLC+PC全自動(dòng)智能控制
- 材料適配：可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料，支持多層薄膜濺射、共濺合金薄膜、反應(yīng)濺射
- 應(yīng)用場景：科研中試及工業(yè)化量產(chǎn)
DE700 pvd鍍膜設(shè)備 產(chǎn)品介紹
北京德儀天力科技發(fā)展有限公司推出的DE700型PVD磁控濺射鍍膜機(jī)，是一款面向科研中試與工業(yè)化量產(chǎn)需求的高真空鍍膜設(shè)備。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，在濺射環(huán)境、電源配置、樣品處理及工藝適配性等方面均具備出色的擴(kuò)展能力。
1、真空腔體與濺射架構(gòu)
設(shè)備提供高真空濺射環(huán)境，確保薄膜沉積過程的純凈度與穩(wěn)定性：腔體內(nèi)可配置多個(gè)濺射源，支持多種靶材同時(shí)或交替工作；濺射距離支持精準(zhǔn)調(diào)節(jié)，可根據(jù)不同工藝需求靈活優(yōu)化沉積條件。
2、電源系統(tǒng)配置
電源系統(tǒng)是該設(shè)備的核心優(yōu)勢之一：標(biāo)配支持直流（DC）、脈沖直流（Pulse DC）及射頻（RF）電源，同時(shí)兼容HiPIMS高功率脈沖磁控濺射電源。多樣化的電源組合使其能夠適應(yīng)從金屬導(dǎo)電薄膜到介質(zhì)絕緣薄膜的廣泛鍍膜需求。
3、樣品承載與溫控模塊
設(shè)備支持批量樣品同時(shí)濺鍍，有效提升生產(chǎn)效率：樣品臺(tái)具備加熱與低溫冷卻雙重功能，可滿足不同工藝對基片溫度的要求。此外，可選配LOAD LOCK全自動(dòng)送樣系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)快速換樣與連續(xù)生產(chǎn)。
4、薄膜質(zhì)量與鍍膜精度
在薄膜性能方面，設(shè)備可沉積高質(zhì)量薄膜，膜厚均勻性與批次重復(fù)性優(yōu)異：鍍膜速率與膜厚控制精度高，薄膜與基底的附著力強(qiáng)。可選配離子束清洗或離子束輔助沉積模塊，進(jìn)一步優(yōu)化膜層致密度與界面結(jié)合力。
5、控制系統(tǒng)與自動(dòng)化程度
設(shè)備采用PLC與PC聯(lián)動(dòng)的全自動(dòng)智能控制系統(tǒng)，支持工藝參數(shù)編程、存儲(chǔ)與一鍵調(diào)用。操作界面直觀，可實(shí)時(shí)監(jiān)控真空度、功率、溫度、膜厚等關(guān)鍵工藝參數(shù)，降低人工干預(yù)，提升工藝重復(fù)性。
6、材料體系與工藝兼容性
該設(shè)備可沉積金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料：工藝方面，支持多層薄膜順序?yàn)R射、多靶共濺制備合金薄膜，以及反應(yīng)濺射工藝（如氮化物、氧化物薄膜制備）。廣泛的材料與工藝兼容性使其適用于功能薄膜、裝飾涂層、光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體器件等多個(gè)研發(fā)與生產(chǎn)領(lǐng)域。
7、應(yīng)用定位
DE700型pvd鍍膜設(shè)備定位于科研機(jī)構(gòu)的新材料研發(fā)、中試線工藝驗(yàn)證，以及中小規(guī)模的工業(yè)化量產(chǎn)。其靈活的電源配置、可選的自動(dòng)化送樣模塊以及穩(wěn)定的薄膜沉積性能，能夠滿足從實(shí)驗(yàn)室探索到批量生產(chǎn)的全鏈條需求。
采購中心
用戶評論
發(fā)布評論