磨拋機金相試樣拋光機：

GYMP-2型金相試樣磨拋機是面向材料檢測、科研教學與工業(yè)質量控制的雙盤臺式制樣設備，

以雙盤獨立控制、調速精準靈活、運行穩(wěn)定可靠為核心優(yōu)勢，可高效完成金屬、合金

、陶瓷等各類試樣的粗磨、精磨、粗拋至精拋全流程制備，為金相顯微觀測、硬度測試、

成分分析提供高質量試樣，滿足實驗室標準化、高效率、高重復性的制樣需求。

設備采用雙盤獨立驅動設計，兩個磨拋盤可分別設置轉速與轉向，支持研磨與拋光同步作業(yè)

，大幅提升批量制樣效率。標配φ230mm磨拋盤，兼容多種規(guī)格砂紙與拋光織物，更換便捷，

可一站式完成多道制樣工序，無需頻繁轉接試樣。轉速調節(jié)兼顧靈活性與便捷性，支持100–1400r/min無級調速，

同時配備300r/min、600r/min、900r/min、1400r/min四級常用定速，一鍵切換即可適配不同材料與工藝要求，正反轉功能可滿足特殊材料制樣需求。

機身采用ABS環(huán)保材料一體成形，搭配穩(wěn)固支撐底盤，運行平穩(wěn)、振動小、

噪音低，主軸采用防漏設計，有效保護軸承，延長設備使用壽命。設備配備水冷噴淋系統(tǒng)與集污盤清洗功能，

磨拋過程中持續(xù)對試樣冷卻，避免過熱導致金相組織改變，同時及時沖走磨屑，防止磨削物累積沉淀，

保持盤面潔凈，減少劃痕、變形層等缺陷，提升制樣合格率。外形尺寸緊湊，適配各類實驗室臺面，

安裝與維護簡便，日常清潔便捷，適配長期高頻使用。

GYMP-2型以穩(wěn)定可靠與高實用性為突出特點，單片機控制系統(tǒng)確保參數精準穩(wěn)定，操作人員可快速上手，

相同參數下制樣效果一致性高，有效降低人工操作誤差。相較于傳統(tǒng)手動制樣，

設備可顯著提升制樣效率，降低勞動強度，制樣質量更穩(wěn)定可控，廣泛應用于高?？蒲?、第三方檢測、金屬加工、汽車零部件、電子材料等領域。

憑借雙盤雙控的靈活設計、精準的調速控制、*的冷卻防護與穩(wěn)定的運行性能，

GYMP-2型成為金相制樣的優(yōu)選設備，助力材料檢測與質量控制規(guī)范化、高效化開展，為科研分析與工業(yè)質控提供可靠支撐。

磨拋機金相試樣拋光機