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內容聲明：
您訪問的DVS Vacuum真空蒸汽吸附儀產品信息，由研唯科技（上海）有限公司自行發(fā)布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于DVS Vacuum真空蒸汽吸附儀型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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產品簡介
DVS Vacuum真空蒸汽吸附儀詳細信息
簡介
DVSVacuum是一款創(chuàng)新的重量法系統(tǒng)，支持靜態(tài)與動態(tài)實驗，適用于多組分吸附研究?？稍诟哒婵窄h(huán)境下實現(xiàn)樣品預熱至400℃，背景壓力低至7x10⁻⁶mbar。該系統(tǒng)能夠精確控制吸附質的引入與排出，特別適合低吸附壓力下的Henry區(qū)段實驗，提供更準確的吸附物成分分析和滯留時間控制。配備的軟件和數據分析工具，支持多種氣體和蒸汽的實驗需求，為材料科學領域提供全面的吸附解決方案。
新品詳情
上市時間：2012年1月
創(chuàng)新點:支持靜態(tài)及動態(tài)實驗的重量法系統(tǒng)。
在高真空下樣品預熱可高達400℃。
實驗背景壓力低至7x10-6mbar。
可使用兩種氣體，兩種蒸汽，或者一種氣體與一種蒸汽進行多組分實驗。
可傳送吸附質的壓力低至0.1mbar時的吸附結果。
典型的氣體和蒸汽包括：
•二氧化碳•二氧化硫•氫•氬•甲苯•氮•甲烷•水•環(huán)己烷•辛•乙醇
詳細信息
技術要點
DVS Vacuum 支持靜態(tài)及動態(tài)實驗的重量法系統(tǒng)
DVS Vacuum 提供雙重吸附解決方案，可進行包括Henry區(qū)段的更高吸附壓力的靜態(tài)吸附實驗和更低吸附壓力的動態(tài)實驗。
動態(tài)真空的原則
在串聯(lián)方式達到動態(tài)真空條件下，控制吸附物的進入和退出：
1.通過下游的真空泵對樣品倉進行抽真空。
2.根據用戶設定的流動速率將吸附分子引進倉內－樣品倉填滿直到達到需要的吸附濃度。
3.下游蝶閥打開來平衡吸附物進出的流動速率。吸附物濃度恒量時，系統(tǒng)穩(wěn)定運行。
使用真空吸附解決方案的優(yōu)點
在Henry 區(qū)域動態(tài)填模式下進行低吸附壓力實驗，提供了兩個關鍵優(yōu)勢：
確定吸附物的成份
靜態(tài)系統(tǒng)在進行低吸附壓力時會使少量空氣滲漏進入樣品倉，隨著時間推移會稀釋吸附物分子。樣品倉的總壓力開始成為溶劑與滲漏空氣的總合。因此實際的吸附物濃度要遠比系統(tǒng)傳感器顯示的結果低，導致實驗結果不準確。
使用DVS Vacuum 動態(tài)模式可以確保不斷消除滲漏的空氣，并由吸附物取而代之。因此樣品倉內總的測量壓力都由吸附分子組成，在Henry區(qū)域提供的實驗濃度也就是準確的。
滯留時間的控制
DVS Vacuum 在寬廣的流動速率的范圍內，達到穩(wěn)定的狀態(tài)。可控制樣品被吸附停留的時間，提供足夠的吸附物/基質接觸以使得測量數據準確如孔大小分布和吸附動力學。
在靜態(tài)條件下（A）和動態(tài)條件下（B）的吸附分子和
基質。不同的條件下測量出的吸附壓力將是相同的。
主要特性
多組分/競爭吸附實驗
使用兩種氣體，兩種蒸汽，或者一種氣體與一種蒸汽進行多組分實驗
高溫樣品預熱器（可選）
在高真空下樣品預熱可高達400℃
高真空
實驗背景壓力低至7x10-6mbar
Henry（享利）區(qū)域（低吸附濃度）試驗。
可傳送吸附質的壓力低至0.1mbar時的吸附結果（更低壓力可通過咨詢SMS得知）
使用氣體和蒸汽
典型的氣體和蒸汽包括：
·二氧化碳 · 二氧化硫 · 氫 · 氬 · 甲苯 · 氮 · 甲烷 · 水 · 環(huán)己烷 · 辛 · 乙醇
軟件
SMS的系統(tǒng)軟件在穩(wěn)定性、 靈活性、 直觀性方面仍然是世界的者。通過廣泛客戶的參與和采納反饋意見并進行自行設計，SMS讓吸附解決方案操作變得更簡單。
DVS 真空控制軟件――PIRANI CONTROL
Pirani Control 讓復雜的實驗變的簡單化。其直觀的、 基于 windows 的、 人性化的界面允許您通過計算機控制運行一系列不同的 DVS 真空試驗。
DVS 真空數據分析軟件――PIRANI ANALYSIS
Pirani 分析利用DVS 真空實驗的靈活性，提供廣泛的、 人性化的數據分析，邊上另有“報表一擊生成”功能。
DVS 分析套件――ADVANCED and ISOTHERM
使用DVS 的、等溫分析套件來闡明關鍵的理化參數。
示意圖和說明
1.溫度控制器 ■
實驗溫度設置范圍可以是20℃－85℃
1a.高溫樣品預熱器（可選）可以在高真空條件下將樣品預熱達400℃
2.真空系統(tǒng) ■
2a.回轉泵 可將真空降至 1.3x10-3mbar
2b.分子泵（可選）
進一步將真空低至7x10-6mbar（與回轉泵組合）
2c.蝶閥
調整氣體/蒸汽吸附物從系統(tǒng)中減少的比率
通過樣品倉提供一個下游壓力控制點
2d & 2e.氣體/蒸汽壓力傳感器
測量與反饋氣體/蒸汽吸附壓力，
范圍：1013mbar － 0.1mbar
3.真空 manifold ■
主要構件都采用316不銹鋼4.氣體/蒸汽注射系統(tǒng) ■
DVS真空系統(tǒng)可以利用一種氣體或蒸汽，
兩種氣體或蒸汽，一種氣體和一種蒸汽的混合，
提供多種濃度的水、有機蒸汽和氣體的濃聚物。
4a - 4f.上游吸附壓力控制
熱導質量流量控制器（MFCs – 4a and 4b）掌控著吸附的進入。
下游吸附壓力控制
吸附減少率由下游蝶閥控制（2c）。
5.系統(tǒng)微量天平 ■
吸附物在吸附臨界解吸附的記錄值作為樣品質量
樣品質量：高過 1.0g
分辨率：0.1 μg
質量變化：高達±150mg
6.電腦控制和軟件 ■
控制實驗參數和連續(xù)記錄并保存數據以便日后數據分析
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