該摩擦機(jī)是為L(zhǎng)CD研發(fā)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的。該系統(tǒng)旨在追蹤聚酰亞胺上的凹槽以定向液晶分子。凹槽使用深度為幾埃的特殊摩擦布制成。基板由真空吸盤(pán)保持,真空吸盤(pán)包括真空泵并與系統(tǒng)集成。HO-IAD-BTR-02型中可裝載的玻璃基板的大尺寸為200mm直徑?;搴驼婵湛ūP(pán)被固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上,以便在不同的摩擦方向上以±20度的任何所需角度旋轉(zhuǎn)和定位。
該系統(tǒng)被開(kāi)發(fā)為一個(gè)獨(dú)立單元,其中主軸的速度和基板的速度可以變化。

特性
● 可傾斜調(diào)整,以調(diào)平基板。
● 可用于調(diào)整高度的垂直平臺(tái)。
● 真空釋放按鈕
主要參數(shù)
● 基板平臺(tái)
a) 電動(dòng)線性平臺(tái)
b) 步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)
c) 行程: 300 mm
d) 小速度: 0.05 mm / s
大速度: 6 mm / s
e) 可移動(dòng)基材的大尺寸: 直徑200mm
f) 基板固定在可旋轉(zhuǎn)+/-45度的旋轉(zhuǎn)臺(tái)上
g) 可選項(xiàng): 可選擇配置基材加溫卡盤(pán),可加熱到155度。
●摩擦輪執(zhí)行器: 無(wú)刷直流電機(jī)帶速度控制
大速度: 3000 rpm
小速度: 0 rpm
● 在液晶顯示屏上顯示速度
● 通過(guò)旋鈕來(lái)控制主軸的速度
● 電源輸入: 230 VAC
● 該系統(tǒng)可以在獨(dú)立模式下使用
儀器體積小,可直接放置于實(shí)驗(yàn)臺(tái)面。

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