化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
移動(dòng)端訪問(wèn)更便捷
孚光精儀是中國(guó)規(guī)模型進(jìn)口光學(xué)精密儀器供應(yīng)商,是全球光電子儀器和基于光子技術(shù)精密儀器的規(guī)模性進(jìn)口商和代理商，主營(yíng)飛秒激光微加工系統(tǒng),激光器,激光晶體,原子力顯微鏡等
查看更多產(chǎn)品簡(jiǎn)介
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)詳細(xì)信息
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是按照“從實(shí)驗(yàn)室到工廠”的方法設(shè)計(jì)的電子束鍍膜蒸發(fā)系統(tǒng),既適用于密集的研發(fā)活動(dòng)，也適用于中試生產(chǎn)。
考慮到“提離”工藝的具體特點(diǎn)，該電子束蒸發(fā)系統(tǒng)適用于直徑不超過(guò)200mm的單晶片以及安裝在球形型材支架上的3×∅3“或6×∅2”晶片的沉積。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)特點(diǎn)
•工藝室由不銹鋼制成，配有ConFlat密封件、集成壁水冷卻和基于500 l/s*離子泵的干式泵送系統(tǒng)
•系統(tǒng)設(shè)計(jì)在微波電子用半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中得到了很好的驗(yàn)證
•采用專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的“掩?！奔夹g(shù)，厚度不均勻性在直徑達(dá)200 mm的基板支架上小于±2.5%
•通過(guò)在350-500mm范圍內(nèi)改變“基板到蒸發(fā)器”的距離來(lái)優(yōu)化材料消耗的能力；特別是，工作距離為350 mm時(shí)，黃金消耗量為3÷4 g/μm
•基于GaAs/InGaAs/AlGaAs和GaN/AlGaN的HEMT的接觸電阻分別為0.1~0.25和0.3~0.5 Om×mm（在STE RTA100系統(tǒng)中接觸退火后）
•開(kāi)發(fā)了基于ITO薄膜的p-GaN透明接觸
•鋁沉積速率不低于60?/s
•W沉積速率不小于1?/s
從支架中心到鈦層∅180 mm（3×∅3''晶圓）的厚度分布，在STE EB71（旋轉(zhuǎn)，“掩?！奔夹g(shù)）獲得。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
沉積腔體內(nèi)剩余壓力:<5×10-7Torr
達(dá)到預(yù)處理真空的時(shí)間（<5×10^-8Torr）: 不超過(guò)20min
離子束（離子能20~300eV): 可選配
加熱處理晶圓數(shù)量：：500 （900可選）
沉積腔烘培溫度： 150℃
同事處理晶圓： 6個(gè)@2英寸，3個(gè)@3英寸，1個(gè)@∅100mm，∅150mm，∅200mm
電子束蒸發(fā)陰極功率：6KW
加速電壓：8KV
相關(guān)資質(zhì)
編號(hào)：91310115MA1K3L3E4N
關(guān)聯(lián)品牌
留言咨詢
移動(dòng)站：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
內(nèi)容聲明：
您訪問(wèn)的電子束蒸發(fā)系統(tǒng)產(chǎn)品信息，由孚光精儀（中國(guó)）有限公司自行發(fā)布提供，產(chǎn)品價(jià)格為面議，如您想了解更多關(guān)于電子束蒸發(fā)系統(tǒng)型號(hào)、參數(shù)、用途等信息，歡迎咨詢。
該內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)，為保障安全，建議您在購(gòu)買(mǎi)相關(guān)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)以及產(chǎn)品質(zhì)量！
相關(guān)分類(lèi)
Categories
該廠商其他產(chǎn)品
Other Products
相關(guān)技術(shù)文章
Tech Articles
采購(gòu)中心
用戶評(píng)論
發(fā)布評(píng)論