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PhotonicLatticeInc于2002年在日本仙臺(tái)成立，通過自有光子晶體技術(shù)開發(fā)了偏振相機(jī)，應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)等。
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無掩膜光刻機(jī)產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,電子/電池 |
| 價(jià)格 | 面議 |
無掩膜光刻機(jī)詳細(xì)信息
無掩膜光刻機(jī)裝置概述：
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顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
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使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機(jī)微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。
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圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。
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因?yàn)榭梢栽谄胀ǖ氖覂?nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。
無掩膜光刻機(jī)應(yīng)用：
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薄膜FET和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成。
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從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評(píng)估其特性。
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研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。
參數(shù)：
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由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以用很低的成本來構(gòu)建系統(tǒng)。
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易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案。
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通過物鏡放大倍率圖案，可以進(jìn)行大范圍的批量曝光。
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可以連接到您自己的顯微鏡上（選項(xiàng)）。
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分辨率在微米級(jí)。
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曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um。
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可以連接到您自己的顯微鏡上（選項(xiàng)）。
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分辨率在微米級(jí)。
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曝光范圍：大2.5mm×1.5mm 小100um×60um。
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